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直讀式光譜分析儀
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CX-9500充氬式直讀光譜分析儀

CX-9500充氬式直讀光譜分析儀

CX-9500充氬式直讀光譜分析儀廣泛應(yīng)用于冶金、鑄造、機械、汽車制造、航空航天、兵器、金屬加工等領(lǐng)域的生產(chǎn)工藝控制,爐前化驗,中心實驗室成品檢驗。CX-9500充氬式全譜直讀光譜儀體積小、穩(wěn)定性好、檢測限低、分析速度快、運行成本低、操作維護方便,是控制產(chǎn)品質(zhì)量的理想選擇。
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  • 產(chǎn)品介紹

CX-9500充氬式直讀光譜分析儀應(yīng)用領(lǐng)域

第二代CCD光譜儀技術(shù), 廣泛應(yīng)用于冶金、鑄造、機械、汽車制造、航空航天、兵器、金屬加工等領(lǐng)域的生產(chǎn)工藝控制,爐前化驗,中心實驗室成品檢驗。CX-9500充氬式全譜直讀光譜儀體積小、穩(wěn)定性好、檢測限低、分析速度快、運行成本低、操作維護方便,是控制產(chǎn)品質(zhì)量的理想選擇。


CX-9500充氬式直讀光譜分析儀:

1、第二代
CCD全譜光譜儀制造技術(shù)(數(shù)字化技術(shù)替代老式體積龐大笨重的光電倍增電子管模擬技術(shù))、通道不受限制 ;

2、引進(jìn)歐洲技術(shù)、同國際光譜儀技術(shù)同步;

3、基體范圍內(nèi)通道改變、增加不需費用

4、升級多基體方便,無須變動增加硬件 ;

5、優(yōu)良的數(shù)據(jù)穩(wěn)定性,同一樣品不同的時間段分析,可獲得良好的數(shù)據(jù)一致性 ;

6、體積小、重量輕, 移動安裝方便 ;

7、高集成度、高可靠性、高穩(wěn)定性 ;

 


CX-9500充氬式直讀光譜分析儀主要特點:

·         1、可測定包括痕量碳(C),磷(P),硫(S)元素,適用于多種金屬基體,如:鐵基,鋁基,銅基,鎳基,鉻基,鈦 基,鎂基,鋅基,錫基和鉛基。全譜技術(shù)覆蓋了全元素分析范圍,可根據(jù)客戶需要選擇通道元素;

·         2、分析速度快捷,20秒內(nèi)測完所有通道的元素成分。針對不同的分析材料,通過設(shè)置預(yù)燃時間及標(biāo)線,使儀器用短的時間達(dá)到優(yōu)的分析效果;

·         3、光學(xué)系統(tǒng)采用充氬恒溫光室, 激發(fā)時產(chǎn)生的弧焰由透鏡直接導(dǎo)入光室,實現(xiàn)光路直通,消除了光路損耗,提高檢出限,測定結(jié)果準(zhǔn)確,重現(xiàn)性及長期穩(wěn)定性極佳;

·         4、特殊的光室結(jié)構(gòu)設(shè)計,使光室容積更小,充氬速度不到普通光譜儀的一半;

·         5、自動光路校準(zhǔn),光學(xué)系統(tǒng)自動進(jìn)行譜線掃描,確保接收的正確性,免除繁瑣的波峰掃描工作。儀器自動識別特定譜線,與原存儲線進(jìn)行對比,確定漂移位置,找出分析線當(dāng)前的像素位置進(jìn)行測定;

·         6、開放式的電極架設(shè)計,可以調(diào)整的樣品夾,便于各種形狀和尺寸的樣品分析;

·         7、工作曲線采用國際標(biāo)樣,預(yù)做工作曲線,可根據(jù)需要延伸及擴展范圍,每條曲線由多達(dá)幾十塊標(biāo)樣激發(fā)生成,自動扣除干擾;

·         8、HEPS數(shù)字化固態(tài)光源,適應(yīng)各種不同材料 ;

·         9、固態(tài)吸附阱,防止油氣對光室的污染,提高長期運行穩(wěn)定性;

·         10、銅火花臺底座,提高散熱性及堅固性能;

·         11、合理的氬氣氣路設(shè)計,使樣品激發(fā)時氬氣沖洗時間縮短,為用戶節(jié)省氬氣;

·         12、采用鎢材料電極,電極使用壽命更長,并設(shè)計了電極自吹掃功能,清潔電極更加容易;

·         13、高性能DSP及ARM處理器,具有超高速數(shù)據(jù)采集及控制功能并自動實時監(jiān)測光室溫度、氬氣壓力、光源、激發(fā)室等模塊的運行狀況;

·         14、儀器與計算機之間采用以太網(wǎng)連接,抗干擾性能好,外部計算機升級與儀器配置無關(guān),使儀器具有更好的適用性;

·    15、核心器件全部原裝進(jìn)口,保證了儀器優(yōu)秀品質(zhì)。 

 

CX-9500充氬式直讀光譜分析儀參數(shù)指標(biāo):

 

光學(xué)系統(tǒng)

光學(xué)結(jié)構(gòu)

帕邢-龍格結(jié)構(gòu)的全譜真空型光學(xué)系統(tǒng)

光室溫度

自動控制恒溫:35℃±0.5℃

波長范圍

160-800nm

光柵焦距

300 mm

光柵刻線

3600 l/mm

一級光譜線色散率

1.2 nm/mm

探測器

多塊高性能線陣CCD

平均分辨率

30pm/pixel

激發(fā)臺

氣 體

沖氬式

氬氣流量

激發(fā)時3-5L/min

電 極

鎢材噴射電極技術(shù)

吹 掃

點擊自吹掃功能

補 償

熱變形自補償設(shè)計

分析間隙

樣品臺分析間隙:4mm

激發(fā)光源

類 型

HEPS數(shù)字化固態(tài)光源

頻 率

100-1000Hz

放電電流

1-80A

特殊技術(shù)

放電參數(shù)優(yōu)化設(shè)計

預(yù) 燃

高能預(yù)燃技術(shù)

數(shù)據(jù)采集系統(tǒng)

處理器

高端ARM處理器,高速數(shù)據(jù)同步采集處理

接 口

基于DM9000A的以太數(shù)據(jù)傳輸

電源與環(huán)境要求

輸 入

220VAC 50Hz

功 率

分析時最大700W,待機狀態(tài)40W

工作溫度

10-30℃(該溫度范圍內(nèi)溫度變化不大于5℃/h)

工作濕度

20-80%

尺寸與重量

主機尺寸

700*660*340 mm

重 量

約30Kg




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